Rilevamento del wafer notch
Mantenimento di un allineamento preciso dei wafer semiconduttori soggetti a vincoli di spazio ristretti
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Conoscere la posizione e l'orientamento di un wafer semiconduttore è fondamentale durante il processo di fabbricazione dei wafer. Questo obiettivo viene conseguito monitorando una marcatura sul wafer per stabilirne l'orientamento in ogni fase. Con wafer che costano da 5.000 a più di 100.000 USD, qualsiasi disallineamento durante il processo di fabbricazione può causare difetti gravi e irreparabili che imporrebbero lo scarto dei wafer.
I metodi tradizionali per individuare la marcatura utilizzano un sensore ottico di rilevamento a sbarramento che richiede un trasmettitore-ricevitore ingombrante posizionato sopra e sotto il wafer. Questa soluzione richiede prezioso spazio fisico e aggiunge tempo dato che il wafer deve ruotare fino a quando non si trova la marcatura. Con l'introduzione di wafer trasparenti (SiC) e altri rivestimenti di wafer unici, il sensore a sbarramento incontra difficoltà nell'individuare con precisione la marcatura, circostanza questa che aumenta la possibilità di disallineamento durante questo processo specifico.
I sistemi di visione In-Sight di Cognex identificano accuratamente la marcatura dei wafer e la posizione XY con una precisione fino a 0,025 pixel. L'algoritmo PatMax di Cognex rileva con precisione i notch dei wafer in qualsiasi orientamento e restituisce i dati di posizione e dimensionali al PLC o al robot di assemblaggio. Inoltre, il design ultracompatto del corpo del sistema di visione soddisfa vincoli di ingombro estremamente ridotti, eliminando la necessità di posizionare un sensore ottico laser sopra e sotto il wafer.
Cognex dispone anche di un sistema ottico brevettato a basso profilo per la visualizzazione dell'intero wafer nei casi in cui i produttori non possono montare una lente a una distanza di lavoro più lunga.
