Allineamento di wafer e Die
Allineamento preciso di wafer e stampi per garantire prestazioni affidabili
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Localizzazione dei componenti con PatMax
Tecnologia di localizzazione dei pezzi e delle caratteristiche precisa e ripetibile
Numerose fasi del processo di produzione dei semiconduttori richiedono un allineamento estremamente preciso, come il processo di fotolitografia, la sonda e il test dei wafer, il montaggio dei wafer e il taglio dei wafer. Per soddisfare la domanda del settore, i produttori di semiconduttori utilizzano sistemi di produzione automatizzati ad alta velocità che richiedono un intervento minimo. I sistemi di allineamento di visione con prestazioni scarse si arrestano più frequentemente per interventi manuali e di manutenzione e il verificarsi di questa circostanza interrompe il processo di produzione e aumenta i costi di assistenza. Oltre alle inefficienze a livello di produzione, un allineamento scarso può diminuire la resa dei wafer e la funzionalità elettrica dei circuiti stampati.
La tecnologia PatMax offre una localizzazione di wafer e modelli di die efficace, precisa e veloce per l’ispezione, la verifica, il montaggio, il taglio e l’attrezzatura di prova del wafer, al fine di contribuire ad evitare problemi. PatMax usa gli algoritmi brevettati di rilevamento delle strutture geometriche per localizzare e allineare i wafer variabili e i modelli di stampi. Allinea wafer e die in modo accurato e ripetibile, assicurando una prestazione affidabile dell'attrezzatura lungo tutto il processo di produzione dei semiconduttori. Con Cognex, gli OEM possono ottimizzare il rendimento complessivo delle attrezzature, migliorando la qualità e la resa.
