Electronics

Electrónica

Alineación de wafer y bloques

Alinear con precisión el wafer y bloques para garantizar un rendimiento confiable

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Localización de piezas con PatMax

Tecnología precisa y repetible de localización de piezas y características

Ya sea durante el proceso fotolitográfico, la exploración y prueba del wafer, o el montaje y corte de wafer, la mala alineación de visión puede provocar miles de asistencias y wafer dañados durante la vida útil de la máquina. Los sistemas de visión con un rendimiento deficiente cuestan a las compañías de equipos semiconductores su participación en el mercado e incrementan significativamente sus costos de apoyo.

La tecnología PatMax ofrece una localización sólida, precisa y rápida de patrones de wafer y bloques para su inspección, exploración, montaje, corte y prueba de wafer para equipos para ayudar a evitar estos problemas. PatMax utiliza algoritmos geométricos patentados de localización de patrones geométricos para localizar y alinear los diversos patrones de wafer y bloques. Alinea wafer y bloques con gran precisión y repetibilidad, garantizando el rendimiento confiable de los equipos durante todo el proceso de fabricación de semiconductores. Con Cognex, los OEM pueden optimizar el rendimiento general de sus equipos, mejorando la calidad y el rendimiento.

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