Electrónica

Detección de marcas en wafer

Mantener una alineación precisa de los wafers de semiconductores en espacios reducidos

Wafer notch detection

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Durante el proceso de fabricación del wafer semiconductor, conocer su posición y orientación es fundamental. Para esto se controla una marca en el wafer para detectar su orientación en cada etapa. Dado que los wafers pueden costar entre $5,000 y más de $100,000, cualquier error en la alineación durante el proceso de fabricación puede causar defectos graves e irreversibles que harían descartar el wafer.

Los métodos tradicionales para detectar la marca utilizan un sensor óptico láser de matriz de haz pasante que necesita de un voluminoso transmisor y receptor situado por encima y por debajo del wafer. Esto consume valioso espacio mecánico y agrega tiempo porque hay que rotar el wafer hasta que se detecta la marca. La introducción de wafers transparentes (SiC) y otros recubrimientos únicos, el sensor de haz pasante tiene problemas para detectar la marca con precisión, lo que aumenta la posibilidad de errores de alineación durante este proceso específico.

Los sistemas de visión In-Sight de Cognex identifican con precisión la marca y la posición en los ejes XY del wafer, con una precisión de 0.025 píxeles. El algoritmo PatMax de Cognex detecta con precisión la marca del wafer en cualquier orientación e informa la posición y los datos dimensionales al robot de montaje o PLC. Además, el diseño ultracompacto del cuerpo del sistema de visión satisface las limitaciones de espacio extremadamente estrechas, lo que elimina la necesidad de colocar un sensor óptico láser por encima y por debajo del wafer.

Cognex también tiene patentado un sistema óptico de bajo perfil para ver el wafer completo en aquellos casos donde los fabricantes no pueden montar un lente a una distancia de trabajo más larga.

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